MOLLIS RPS

Источники индукционного разряда для удаленной плазменной обработки

Описание

Mollis RPS – высокочастотный источник индукционного разряда, предназначенный для радикальной обработки, травления, осаждения, удаления фоторезистивных материалов  в микроэлектронном производстве. Источник позволяет обрабатывать даже самые чувствительные образцы без их повреждения частицами плазмы. Скорость обработки достигается за счет высокой концентрации активных радикалов. Источник обеспечивает генерацию низкотемпературной газоразрядной плазмы низкого давления с концентрацией электронов 10E10–10E13 см-3 в диапазоне давлений 10-100 Па.

Представляет собой источник индукционного разряда с цилиндрической спиральной антенной системой, работающей на частоте 2,64 МГц и кварцевым разрядным реактором.

Основные достоинства

- Низкая энергий электронов и ионов плазмы (Te < 5 эВ; Ti < 0,15 эВ);

- Высокая степень диссоциации технологических газов (более 90%);

- Компактное исполнение со встроенной автоматизированной высокочастотной системой питания;

- Разрядная система источника плазмы выполнена из керамики или кварца (в конструкции устройства отсутствуют силиконовые и другие виды заливочных компаундов).