ION-IMBREM CCP argon
ION-IMBREM
Источники плазмы емкостного разряда для непосредственной плазменной обработки
Описание
ION IMBREM представляет собой устройство генерации плазмы высокочастотного емкостного разряда, предназначенного для использования в технологических установках плазменной обработки: плазмохимического осаждения, плазмохимического травления, реактивного ионного травления, очистки, активации и др. Напряжение высокой частоты, подводимое к плоскому электроду-газораспределителю, обеспечивает генерацию высокочастотного емкостного газового разряда с концентрацией ионов плазмы 10E8 – 10E11 см-3 и энергией от десятков до сотен электрон вольт.
Основные достоинства
– Широкий диапазон управления энергией ионов;
– Встроенное согласующее устройство;
– Работа в широком диапазоне давлений;
– Большая площадь обработки.
Технические характеристики источника плазмы ION-IMBREM
*Доступны другие размеры по запросу