ICP-PLASMA CALM
ICP-PLASMA CALM

ICP-PLASMA CALM
ICP-PLASMA CALM

1/1

PLASMA CALM

Высокочастотные источники индукционного разряда для непосредственной и удаленной плазменной обработки

Описание

Источник предназначен для использования в процессах плазменной и плазмохимической обработки в оптическом и полупроводниковом производстве.
Обеспечивает генерацию низкотемпературной газоразрядной плазмы низкого давления в диапазоне 0,05–100 Па, высокой плотности с концентрацией электронов 10E10–10E12 см-3 и степенью ионизации до 3%.
Представляет собой источник индукционного разряда с низкоомной плоской многозаходной спиральной антенной системой.

Основные достоинства

- Низкая энергий электронов и ионов плазмы (Te < 5 эВ; Ti < 0,15 эВ);
- Высокая степень ионизации в некоторых режимах превышающая 3 %;
- Встроенное автоматическое согласующее устройство.